半導体洗浄装置MEMS洗浄装置

手動から全自動までお客様の使い方に合わせて製作対応。幅広い範囲のワークサイズに高品質に対応しながら、安定した温度管理、高精度な濃度管理を実現。酸、アルカリ、有機溶剤等、対応薬液は多岐に渡り、スピン乾燥、IPAベーパー乾燥、マランゴニ乾燥等各種乾燥方式に対応。

特長

高いプロセス性能	シンプルな処理構造や最適循環ノズルにより循環均一性を実現
ハイスループット	槽間搬送は最短距離を最短時間にて搬送させる制御システム対応
メンテナンス性の向上	メンテナンス性を考慮した部品配置
装置設計	豊富な実験データに基づくプロセス最適化に向けた設計が可能
豊富な実績	半導体、MEMSを始めとした幅広い分野での実績により、ニーズに合わせた最適なカスタム装置をご提供

対応プロセス

RCA洗浄・窒化膜除去・酸化膜除去・ポリマー除去・レジスト剥離・シリコンエッチング・犠牲層エッチング・メタルエッチング・現像